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恩樂(lè)科全自動(dòng)二流體離心清洗機(jī)主要用于晶圓劃片后清洗、攝像頭模組表面微塵清洗、PCB在固晶（D/B）前的清洗、芯片固晶（D/B）、打線（WB）之后清洗、LENS、VCM、HOLDER+IR組裝前的清洗，通過(guò)高壓純水沖洗及水氣二流體清洗，從而實(shí)現(xiàn)了有效去除Holder，CMOS本體，Wafer等表面微塵顆粒。

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深圳恩樂(lè)科半導(dǎo)體晶圓切割劃片清洗用二氧化碳發(fā)泡機(jī)CO2 bubbler二氧化碳加碳機(jī)二氧化碳鼓泡機(jī)起泡機(jī)超純水電阻調(diào)節(jié)裝置、超純水防靜電裝置的主要用途： 一是晶圓切割劃片時(shí)帶有靜電，靜電吸附了硅屑，清洗不干凈。 二是清洗的產(chǎn)品本身有堿性物質(zhì)，要在微酸性水中和才能去除，又不能有別的離子進(jìn)入。

恩樂(lè)科攝像模組二流體清洗機(jī) 型號(hào)：ELK-800S 清洗對(duì)象：COB綁定后FPC金線清洗、LENS模組、FPC軟板、COB模塊、LENS HOLDER等

深圳恩樂(lè)科半導(dǎo)體晶圓切割劃片清洗用二氧化碳發(fā)泡機(jī)CO2 bubbler二氧化碳加碳機(jī)超純水電阻調(diào)節(jié)裝置、超純水防靜電裝置的主要用途： 一是芯片切割劃片時(shí)帶有靜電，靜電吸附了硅屑，清洗不干凈。 二是清洗的產(chǎn)品本身有堿性物質(zhì)，要在微酸性水中和才能去除，又不能有別的離子進(jìn)入，所以需要注入純凈的CO2。配套劃片機(jī)和超聲波清洗機(jī).型號(hào)：ELK-500L、ELK-1000L、 ELK-2000L、 ELK-3500L、ELK-5000L、ELk-6000L、ELK-7000L、ELK-100000L

深圳恩樂(lè)科半導(dǎo)體晶圓切割劃片清洗用二氧化碳發(fā)泡機(jī)CO2 bubbler二氧化碳加碳機(jī)超純水電阻調(diào)節(jié)裝置、超純水防靜電裝置的主要用途： 一是芯片切割劃片時(shí)帶有靜電，靜電吸附了硅屑，清洗不干凈。 二是清洗的產(chǎn)品本身有堿性物質(zhì)，要在微酸性水中和才能去除，又不能有別的離子進(jìn)入，所以需要注入純凈的CO2。配套劃片機(jī)和超聲波清洗機(jī)使用。 型號(hào)：ELK-500L ELK-1000L ELK-2000L ELK-3000L ELK-4000L ELK-5000L ELK-7000L ELK-100000L