恩樂科全自動二流體離心清洗機

型號ELK-820S

恩樂科全自動二流體離心清洗機主要用于晶圓劃片后清洗、攝像頭模組表面微塵清洗、PCB在固晶（D/B）前的清洗、芯片固晶（D/B）、打線（WB）之后清洗、LENS、VCM、HOLDER+IR組裝前的清洗，通過高壓純水沖洗及水氣二流體清洗，從而實現(xiàn)了有效去除Holder，CMOS本體，Wafer等表面微塵顆粒。

恩樂科全自動二流體離心清洗機特點：可以實現(xiàn)自動上下料；可更換清洗盤清洗多種產(chǎn)品，清洗盤按產(chǎn)品定做；全自動二流體離心清洗機操作方便快捷，更具人性化；采用二流體清洗，清洗精度高，對產(chǎn)品零損傷，純水消耗量極小旋轉(zhuǎn)式噴桿，避免二次污染產(chǎn)品；全自動二流體離心清洗機高速離心設(shè)計，轉(zhuǎn)速可調(diào)節(jié)100-1500R/Min；配備離子風(fēng)機靜電消除裝置、腔壁加熱裝置，輔助清洗達到最佳效果；縮減寬度的省空間設(shè)計，減少無塵車間的占用面積；

恩樂科全自動二流體離心清洗機整機不銹鋼機身，能耐酸堿，對工作環(huán)境無污染，鏡面機殼使設(shè)備保養(yǎng)時易于清理；配備2級空氣過濾系統(tǒng)，壓縮空氣符合ISO8573.1標(biāo)準(zhǔn)；完全使用超純水清洗，符合RoHS標(biāo)準(zhǔn)。全自動二流體離心清洗機一鍵式操作，整個清洗過程全自動完成，無需人工干預(yù)；離心速度可調(diào)；鏡面不銹鋼結(jié)構(gòu)，并設(shè)有工藝觀察窗口，實用美觀；全自動二流體離心清洗機專業(yè)設(shè)計，二級過濾，無二次污染；能耗低，運行噪音小，環(huán)境友好；外形緊湊，占地面積小，調(diào)配便捷；全自動二流體離心清洗機霧化效果均勻，二流體壓力均勻，運行安全穩(wěn)定；全體系儀表監(jiān)測，并設(shè)有報警裝置；純水自動加壓過濾，確保清洗效果

全自動二流體離心清洗機參數(shù)：

設(shè)備外觀尺寸 880mm（L） × 950mm（W） × 1880mm（H）

清洗盤規(guī)格 定制（清洗盤直徑＜ 550mm)

清洗方式 二流體清洗

干燥方式 高速離心甩干

電源供應(yīng) AC380V 50HZ

總功率 7KW耗電量

清洗時: 3.5kw/h

待機時: 1kw/h

傳動馬力 3HP

環(huán)境過濾方式 0.3μm；

99.999%空氣過濾方式 1μm×1；0.01μm×1

離心轉(zhuǎn)速 100-1500RPM

純水消耗量 0-7L/Min

氣體消耗量 10-30m /H

清洗壓力

液體壓力：3-8Kgf/cm

空氣壓力：0.2-0.5MpaDI

水供應(yīng) 流量：＞7LPM

電阻率：＞17MΩ氣源供應(yīng)

壓力：0.45-0.7Mpa；

流量：＞ 30m /H（潔凈度符合清洗要求）

純水入口徑 12mm軟管或PT1/2″內(nèi)螺紋

氣源入口徑 12mm

氣管排水出口徑 PT 1″內(nèi)螺紋

排氣口口徑 4″×2（需加強抽風(fēng) ,風(fēng)速大于3m/sec）

機器凈重 約450KG