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深圳恩樂科半導體晶圓切割劃片清洗用二氧化碳發(fā)泡機CO2 bubbler二氧化碳加碳機超純水電阻調節(jié)裝置、超純水防靜電裝置的主要用途： 一是芯片切割劃片時帶有靜電，靜電吸附了硅屑，清洗不干凈。 二是清洗的產品本身有堿性物質，要在微酸性水中和才能去除，又不能有別的離子進入，所以需要注入純凈的CO2。配套劃片機和超聲波清洗機.型號：ELK-500L、ELK-1000L、 ELK-2000L、 ELK-3500L、ELK-5000L、ELk-6000L、ELK-7000L、ELK-100000L 

“恩樂科”品牌二氧化碳發(fā)泡機產品介紹（超純水防靜電裝置）

產品功能：

超純水防靜電裝置，又稱co2 bubbler(二氧化碳發(fā)泡機、二氧化碳鼓泡機)，去離子水電阻率調節(jié)裝置，加碳機等等。其原理是向高電阻率的純水中添加高純二氧化碳， 在水中產生適量的離子增強純水的導電性，降低純水的電阻率，防止在晶圓劃片制程、清洗等半導體、TFT加工過程中產生靜電損傷產品，消除硅屑的靜電吸附便于清洗干凈， 最后烘干后二氧化碳揮發(fā)不殘留任何雜質，不造成二次污染。超純水防靜電裝置和設備，可有效控制微電子工業(yè)生產制程中的靜電危害，防止靜電吸附導致產品因靜電放電受到損傷， 防止靜電破壞和微粒子的表面附著，大大提高產品良品率，降低生產成本。

設備原理： 
本公司經(jīng)過多年的研發(fā)和試驗，生產ELK 系列超純水防靜電裝置，本裝置全部采進口優(yōu)質材料和儀表，設計原理是通過膜接觸器來實現(xiàn)超純水的潔凈CO2 無污染注入。膜接觸器的特點是氣體可以透析式穿過膜表面均勻溶解到水里，而水和微粒雜質卻很難透過膜。用這種特制膜將CO2 氣體和超純水隔開， 通過設備中的精密調節(jié)裝置可以控制CO2 在水中的溶解量， 從而實現(xiàn)精確控制水的電阻率。產品水的電阻率可以很方便且精確地調整到0.1-2MΩ?cm范圍內。此產品可以消除產品表面產生的靜電對產品造成靜電吸附污染、靜電放電損傷等危害，大大提高了產品的良品率。該產品廣泛應用于微電子和半導體行業(yè)，價格只有進口產品的二分之一左右， 經(jīng)過多家客戶2年以上的測試評價， 結論是完全可以是替代進口產品。 
設備特點： 
1、全部材料采用進口超純水管配件和儀表 
2、設備結構簡單緊湊， 占地少，安裝方便，故障率低 
3、零延遲響應流量變化，保證產水電阻率的高穩(wěn)定性 
4、用氣省，耗電少，節(jié)能環(huán)保 
5、低用水流量情況下電阻率值的精確穩(wěn)定控制
6、自適應混合方式，產品水的電阻率可以很方便且精確地調整到0.1-2MΩ?cm范圍內 
7、純機械靜態(tài)方式工作，故障率極低 
8、采用最先進透氣膜方式以及無需空氣切入， 產水品質完全超越同類產品

型號：   

ELK-500L、ELK-1000L  、ELK-2000L 、ELK-3500L 、ELK-4000L 、ELK-5000L 、ELK-6000L 、ELK-7000L、 ELK-8000L

ELK-10000L、ELK-15000L 、ELK-20000L、ELK-25000L、ELK-30000L

流量范圍：1-100M3/H

適用行業(yè)：

1、 微電路芯片切割和清洗2、光掩膜切割和清洗 3、晶圓切割和芯片清洗 4、半導體硅片切割和清洗5、太陽能電池片切割和清洗 6、TFT面板切割和清洗 7、特殊工業(yè)的控制超純水電阻