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深圳市恩樂科環(huán)保科技有限公司
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恩樂科晶圓切割劃片清洗用二氧化碳發(fā)泡機(jī)CO2 bubbler ELK-2000L超純水防靜電裝置
深圳恩樂科半導(dǎo)體晶圓切割劃片清洗用二氧化碳發(fā)泡機(jī)CO2 bubbler二氧化碳加碳機(jī)超純水電阻調(diào)節(jié)裝置、超純水防靜電裝置的主要用途： 一是芯片切割劃片時(shí)帶有靜電，靜電吸附了硅屑，清洗不干凈。 二是清洗的產(chǎn)品本身有堿性物質(zhì)，要在微酸性水中和才能去除，又不能有別的離子進(jìn)入，所以需要注入純凈的CO2。配套劃片機(jī)和超聲波清洗機(jī)使用。 型號(hào)：ELK-1000L ELK-2000L ELK-3500L ELK-5000L ELK-7000L ELK-100000L
恩樂科5MW大功率IGBT制氫電源，適配AEM、PEM電解槽、堿性電解槽
恩樂科和成都道和賽能公司共同研發(fā)的新一代5MW大功率IGBT制氫電源，適配AEM、?PEM電解槽用IGBT全控制氫電源、堿性電解槽用。業(yè)績：上海氫鸞、北京航宇、穩(wěn)石氫能、浙江氫舟能源、中集集電、陜西華秦。
CO2 bubbler 二氧化碳發(fā)泡機(jī)、加碳機(jī)、超純水防靜電設(shè)備ELK-3000L
深圳恩樂科晶圓切割劃片清洗用二氧化碳發(fā)泡機(jī)CO2 bubbler二氧化碳加碳機(jī)超純水電阻調(diào)節(jié)裝置、超純水防靜電裝置的主要用途： 一是芯片切割劃片時(shí)帶有靜電，靜電吸附了硅屑，清洗不干凈。 二是清洗的產(chǎn)品本身有堿性物質(zhì)，要在微酸性水中和才能去除，又不能有別的離子進(jìn)入，所以需要注入純凈的CO2。
恩樂科ELKPURE EDI標(biāo)準(zhǔn)型
恩樂科EDI用途和優(yōu)點(diǎn)：1，為電力、化工、鋼鐵、微電子、半導(dǎo)體、光伏、印染、線路板等行業(yè)提供高純水。2，無需酸堿再生，完全取代混床，綠色環(huán)保。3，無濃水循環(huán)，無需加鹽。4，模塊化設(shè)計(jì)，占地空間小，能耗超低。5，擁有核心專利技術(shù)，極水單獨(dú)排放通道，具有 散熱好，使用壽命長，安全性高等優(yōu)點(diǎn)。
