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恩樂科臺式半導體晶圓切割劃片清洗用二氧化碳發(fā)泡機CO2 bubbler ELK-30A
恩樂科CO2 bubbler 臺式二氧化碳發(fā)泡機 超純水防靜電裝置 ELK-10A、ELK-20A、ELK-30A，用于半導體晶圓劃片、清洗消除產品靜電，半導體濕法制程，防止產品靜電損傷。
恩樂科半導體晶圓切割劃片清洗用二氧化碳發(fā)泡機CO2 bubbler ELK-1000L
深圳恩樂科晶圓切割劃片清洗用二氧化碳發(fā)泡機CO2 bubbler二氧化碳加碳機超純水電阻調節(jié)裝置、超純水防靜電裝置的主要用途： 一是芯片切割劃片時帶有靜電，靜電吸附了硅屑，清洗不干凈。 二是清洗的產品本身有堿性物質，要在微酸性水中和才能去除，又不能有別的離子進入，所以需要注入純凈的CO2。配套劃片機和超聲波清洗機.
恩樂科二氧化碳發(fā)泡機CO2 bubbler ELK-3500LS超純水防靜電裝置（觸摸屏款）
恩樂科二氧化碳發(fā)泡機CO2 bubbler ELK-3500LS超純水防靜電裝置 深圳恩樂科晶圓切割劃片清洗用二氧化碳發(fā)泡機CO2 bubbler二氧化碳加碳機超純水電阻調節(jié)裝置、超純水防靜電裝置的主要用途： 一是芯片切割劃片時帶有靜電，靜電吸附了硅屑，清洗不干凈。 二是清洗的產品本身有堿性物質，要在微酸性水中和才能去除，又不能有別的離子進入，所以需要注入純凈的CO2。
恩樂科熱水消毒型EDI 耐高溫EDI ELK-3HT，替換MK-3 pharm HT
恩樂科熱水消毒型EDI 耐高溫EDI ELK-3HT，用于食品、生物制藥、化妝品等無菌超純水的行業(yè)。可替換MK-3 pharm HT
半導體晶圓切割劃片清洗二氧化碳發(fā)泡機CO2 bubbler ELK-2000LS觸摸屏款
深圳恩樂科半導體晶圓切割劃片清洗用二氧化碳發(fā)泡機CO2 bubbler二氧化碳加碳機超純水電阻調節(jié)裝置、超純水防靜電裝置的主要用途： 一是晶圓切割劃片時帶有靜電，靜電吸附了硅屑，清洗不干凈。 二是清洗的產品本身有堿性物質，要在微酸性水中和才能去除，又不能有別的離子進入，所以需要注入純凈的CO2。配套劃片機和清洗機。
恩樂科熱水消毒型EDI 耐高溫EDI ELK-30HI，可替換LXM30HI
恩樂科熱水消毒型EDI 耐高溫EDI ELK-30HI，用于食品、生物制藥、化妝品等無菌超純水的行業(yè)?？商鎿QLXM30HI LXM24HI LXM18HI LXM10HI LXM04HI
